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日耗电3万度台积电计划关闭部分EUV光刻机:先进工艺过剩

2022-09-01 10:29 来源: TechWeb   阅读量:12798   

EUV光刻机是半导体制造中的核心设备,只有ASML公司生产单台价格在10亿人民币左右之前,三星,TSMC和其他公司不得不争相购买可是,今年半导体的情况发生了变化相反,EUV光刻机计划关闭和省电,因为它...

EUV光刻机是半导体制造中的核心设备,只有ASML公司生产单台价格在10亿人民币左右之前,三星,TSMC和其他公司不得不争相购买可是,今年半导体的情况发生了变化相反,EUV光刻机计划关闭和省电,因为它消耗太多的电力

来自产业链源头手机芯片专家的消息称,伴随着先进制程产能利用率开始下降,且下降时间在评估后还会持续一段时间,TSMC计划从年底开始关停部分EUV设备,以节省EUV设备的巨额功耗。

根据消息显示,TSMC目前拥有约80台EUV光刻机,主要用于7纳米,5纳米及以下的先进工艺今年9月,它将量产3纳米工艺,所有这些都需要EUV掩模对准器但伴随着PC,手机,显卡等产品需求的下降,先进工艺生产的芯片势必会受到影响

今年苹果iPhone 14 Pro系列的A16处理器不急着用3nm工艺,还在用4nm工艺另外,因为3nm能效问题,苹果已经取消了原定的3nm芯片生产计划

与之前的DUV光刻机相比,EUV光刻机需要使用高能激光,光线会多次折射,损耗很大早期效率仅为0.02%现在量产可以做到2%的效率,但也意味着会消耗掉大部分的电力

《光刻机》中的EUV一天大约需要3万度电,一年大约消耗1000万度电,完全是一只电老虎。

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